阪大、EUV露光による次世代半導体製造のスループットを10倍以上向上
阪大、EUV露光による次世代半導体製造のスループットを10倍以上向上
記者のつぶやき
先月にたまたまUV露光技術の開発は遅れに遅れている。
最大の理由は、EUV光源の出力が上がらないことが問題であるという記事を目にした。
しかしその1ヶ月後に見事阪大が、10倍の出力を出せるものを開発したニュースが届いた。
UV露光技術のイノベーションがおきこれから劇的に開発が進むだろう!楽しみだ!
Paper LinK
阪大、EUV露光による次世代半導体製造のスループットを10倍以上向上
SJNニュース 再生可能エネルギー最新情報
証拠VTR
【EUV編(1)】ここ1~2年で勝負が決まる
Tech-On!
次世代の半導体製造の速度を10倍以上にする技術を確立極端紫外線(EUV)リソグラフィの実現へ大きな一歩
科学技術振興機構 大阪大学