【11/27@大分市】第4回大分県先端技術研究会(次世代半導体)を開催します

この度、2026年11月27日(金)大分市内のJ:COM ホルトホール大分にて「第4回大分県先端技術研究会」(主催:大分県)を開催します。テーマは「次世代半導体」とし、国内で最先端の研究開発・応用に取り組んでいる研究者・先端技術を有する企業にご講演いただきます。
本研究会は、大分県内企業と県内外の研究者・事業者の連携を生み出し、新たな製品等の研究開発の促進を目的に行います。大分県内はもちろん、県外の企業の皆様も、ぜひご参加ください。
参加申込は
こちらをクリックまたはQRコードから
<開催概要>
・日時:2026年11月27日(金)14:00-16:40
・主催:大分県 (運営委託:株式会社リバネス)
・場所:J:COM ホルトホール大分 2階 セミナールームS
(〒870-0839 大分県大分市金池南1丁目5−1)
・参加費:無料
※オンライン配信はございません。現地にてご参加ください。
<研究会開催の背景・目的>
技術が著しく進歩する中、先端技術を活用し、産業振興や地域課題の解決に繋げていくためには、これまで以上に産学官の連携が求められています。県では、そうした連携をより戦略的に生み出していくため、本研究会を立ち上げました。第4回目はテーマを「次世代半導体」とし、最先端の研究開発・応用に取り組んでいる大学研究者や企業開発者にご講演いただきます。
<当日タイムライン>
| 14:00- | 開会 |
| 14:05- | ご講演① 「計算機ホログラムを用いたビーム成形レーザー加工機の作り方と使い方」 株式会社ホロデザイン 取締役 宇都宮大学 卓越教授 早崎 芳夫 氏 レーザー加工の産業利用において、加工形状の高度化と加工対象の複雑化が進む中、集光ビームの調節だけでは対応が難しい要求がある。フラットトップビームや長尺集光ビームをはじめ、多様なビーム成形技術の利用が広がっている。本講演では、ホログラフィックビーム成形レーザー加工を活用するために必要な光学理論や実装技術について紹介する。 |
| 15:05- | ご講演② 「酸化ガリウムパワー半導体の進展とその先へ」 株式会社ヘテロスタックス 代表取締役 佐々木 公平 氏 SiCを超える低損失パワー半導体の実現を目指し、酸化ガリウムの研究開発が国内外で加速している。6インチウエハや超高耐圧トランジスタ開発の最新動向を解説する。また、SiCや酸化ガリウム等の単一材料デバイスの限界を超える、異種接合型デバイスという新しいコンセプトについても紹介する。 |
| 16:05- | まとめ、閉会挨拶 |
| 16:10- | 名刺交換、情報交換 |
| 16:40 | 終了 |
<講師プロフィール>
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株式会社ホロデザイン 取締役 宇都宮大学 卓越教授 早崎 芳夫 氏1993年3月、筑波大学にて博士(工学)を取得。理化学研究所、徳島大学を経て、現在、宇都宮大学オプティクス教育研究センター教授。専門は、光干渉計測やレーザー加工におけるシステムデザイン。OSA、SPIE、応用物理学会のフェロー。レーザー学会、日本光学会、レーザー加工学会、電気学会の会員。 |
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株式会社ヘテロスタックス 代表取締役 佐々木 公平 氏長岡技術科学大学電気電子工学専攻修士課程修了。タムラ製作所に入社し、酸化ガリウムの結晶成長とデバイス応用研究に従事。論文提出により京都大学より博士号取得。ノベルクリスタルテクノロジー取締役CTO。2025年、異種接合型デバイスの事業化を目指し、ヘテロスタックス創業。酸化ガリウム関連の国家プロジェクトの研究代表を歴任し、累計管理研究費は総額70億円を超える。 |


